Разработка топологии кристалла

Для разработки топологии кристалла необходимо учитывать следующее:

должна быть выбрана оптимальная конфигурация размещения областей;

каждая область должна занимать как можно меньшую площадь;

если в результате разработки топологии остались свободные участки площади (объёмы), они могут быть использованы для увеличения наиболее критичных размеров областей.

Исходя из вышеприведённых положений, разрабатывается топология кристалла, т.е. наиболее оптимальное размещение в его объёме областей магнитодиода.

1 - область p+ проводимости, легированная бором;

- область n+ проводимости, легированная фосфором;

и 4 - окисел SiO2;

- металлизация (наносится сплав Al-Si);

- плёнка хрома;

- плёнка меди;

- плёнка олово-висмут;

- припой ПОС 61.

Прочтите также:

Разработка микропроцессорного устройства управления технологическим процессом
В наше время промышленные предприятия используют автоматизированные производственные линии. Их применение значительно увеличивает производительность, обеспечивает стабильное качеств ...

Разработка сети связи с использованием современных технологий
Технология SDH, разработанная изначально для объединения и синхронной передачи по волоконно-оптическим линиям PDH-потоков, давно получила широкое распространение во всем мире. Такие дос ...

Работа электропривода системы генератор–двигатель
Развитие промышленных предприятий стало возможным лишь при переходе от ручного привода исполнительных механизмов к механическим приводам. Еще в глубокой древности принимались простейшие ...

Основные разделы

2020 © Все права защищены! >> www.techeducator.ru